產品類型

旋轉鉬/鉬合金靶

應用領域 廣泛用于光學玻璃,觸摸屏玻璃膜系, 導電玻璃,TFT-LCD,半導體電子
主要成分 Mo
成型工藝 燒結
密度 ≥9.7g/cm3
純度 3N5

旋轉鋁/鋁合金靶

應用領域 廣泛用于光學玻璃,觸摸屏玻璃膜系, 導電玻璃,TFT-LCD,半導體電子
主要成分 AI
成型工藝 熔煉
密度 ≥2.7g/cm3
純度 5N

旋轉氧化鈮靶

應用領域 廣泛用于光學玻璃,觸摸屏玻璃膜系, 導電玻璃,TFT-LCD,半導體電子
主要成分 Nb2Ox
成型工藝 噴涂
密度 ≥4.3g/cm3%
純度 3N5

旋轉硅靶

應用領域 制作SiO2膜,用于光學玻璃,觸摸屏、 半導體、平面顯示
主要成分 Si
成型工藝 噴涂
密度 ≥2.23g/cm3
純度 3N5

旋轉銅靶

應用領域 制作Cu膜,用于裝飾玻璃鏡膜, TFT-LCD,半導體電子
主要成分 Cu
成型工藝 熔煉
密度 ≥8.9g/cm3
純度 4N

旋轉氧化鈦靶

應用領域 制作TiO2膜,用于光學玻璃,TFT- LCD,半導體電子
主要成分 TiOx
成型工藝 噴涂
密度 ≥4.1g/cm3
純度 2N7

旋轉二氧化硅靶

應用領域 廣泛用于Low-E玻璃膜系,光學玻璃,觸 摸屏玻璃膜系, TFT-LCD,半導體電子
主要成分 SiO2
成型工藝 熔煉
密度 ≥2.2g/cm3
純度 4N

平面鉬/鉬合金靶

應用領域 廣泛用于光學玻璃,觸摸屏玻璃膜系, 導電玻璃,TFT-LCD,半導體電子
主要成分 Mo
成型工藝 燒結
密度 ≥9.7g/cm3
純度 3N5

平面鋁/鋁合金靶

應用領域 廣泛用于光學玻璃,觸摸屏玻璃膜系, 導電玻璃,TFT-LCD,半導體電子
主要成分 AI
成型工藝 熔煉
密度 ≥2.7g/cm3
純度 5N

平面鈧/鈧合金靶

應用領域 廣泛用于航天飛行器、空客A320、 交通設備、體育器械
主要成分 ScAl
成型工藝 熔煉
密度 ≥99%
純度 4N

平面鉻靶

應用領域 廣泛用于各類裝飾膜,建筑汽車】 玻璃膜,光刻鉻膜
主要成分 Cr
成型工藝 燒結
密度 ≥7.15g/cm3
純度 2N5-4N

平面鈮靶

應用領域 廣泛用于光學玻璃,觸摸屏,半導體
主要成分 Nb
成型工藝 熔煉
密度 ≥8.5g/cm
純度 3N

平面氧化鈮靶

應用領域 廣泛用于Low-E玻璃膜系,光學玻璃 ,觸摸屏玻璃膜系,導電玻璃,TFT- LCD,半導體電子
主要成分 Nb2Ox
成型工藝 燒結
密度 ≥4.5g/cm3
純度 4N

平面硅靶

應用領域 廣泛用于Low-E玻璃膜系,光學玻璃,觸 摸屏玻璃膜系, TFT-LCD,半導體電子
主要成分 Si
成型工藝 直拉
密度 ≥2.33g/cm3
純度 5N

平面二氧化硅靶

應用領域 廣泛用于Low-E玻璃膜系,光學玻璃,觸 摸屏玻璃膜系, TFT-LCD,半導體電子
主要成分 SiO2
成型工藝 熔煉
密度 ≥80%
純度 4N

平面二氧化錫靶

應用領域 廣泛用于Low-E玻璃膜系,光學玻璃, 觸摸屏玻璃膜系, TFT-LCD,半導體電子
主要成分 SnO2
成型工藝 燒結
密度 ≥80%
純度 4N

平面AZO靶

應用領域 廣泛用于Low-E玻璃膜系,光學玻璃, 觸摸屏玻璃膜系, TFT-LCD,半導體電子
主要成分 AZO
成型工藝 燒結
密度 ≥5.5g/cm3
純度 3N5

平面鋯靶

應用領域 廣泛用于衛浴五金, 建筑五金, 汽車五金, 機殼, 裝飾配件等,有高硬度, 高亮度, 抗 蝕抗氧化, 不脫落, 不掉色特點
主要成分 Zr
成型工藝 熔煉
密度 ≥6.5g/cm3
純度 3N

SiO2顆粒

應用領域 廣泛用于光學鏡頭、光學鏡片
主要成分 SiO2
成型工藝 熔煉
密度 ≥2.2g/cm3
純度 4N
ITO藍色粉末
ITO黃色粉末
AZO粉末
ATO粉末

眾力擁有先進的靶材和背板金屬化及綁定技術,可為客戶提供綁定服務,
幫助客戶達到最佳濺射效果。

旋轉靶綁定

平面靶綁定

無初始粘性,熱熔+UV固化,方便排泡和返工。

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